بررسی ممانعت کنندگی دو شیف باز جدید بر روی مس در اسید سولفوریک نیم مولار

بررسی ممانعت کنندگی دو شیف باز جدید بر روی مس در اسید سولفوریک نیم مولار

چکیده:
مطالعه ازدارندگی دو شیف باز با نامهای bis-(2-hydroxy-3-methoxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine و bis-(2-hydroxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine روی مس در اسید سولفوریک نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی (AC امپدانس و پلاریزاسیون تافل) انجام شده است. نتایج بدست آمده از منحنی های نایکوئیست نشان می دهد که افزایش غلظت این دو شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت لایه دو گانه و در نتیجه باعث افزایش راندمان حفاظت آنها برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار شده است. این دو شیف باز ممانعت کننده های مناسبی برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار هستند و هر دو ماده از نوع ممانعت کننده های آندی می بشند و به صورت جذب شیمیایی بر روی سطح مس مانع از خوردگی آن می شوند و این دو شیف باز از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.

 

مناسب جهت استفاده دانشجویان رشته متالوژی
در قالب PDF


فرمت فایل دانلود فرمت فایل: pdf

تعداد صفحات تعداد صفحات: 10

پس از ثبت دکمه خرید و تکمیل فرم خرید به درگاه بانکی متصل خواهید شد که پس از پرداخت موفق بانکی و بازگشت به همین صفحه می توانید فایل مورد نظر خورد را دانلود کنید. در ضمن لینک فایل خریداری شده به ایمیل شما نیز ارسال خواهد شد. لینک دانلود فایل به مدت 48 ساعت فعال خواهد بود.


مطالب مرتبط